[특허]Method and device for decontaminating optical surfaces

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Method and device for decontaminating optical surfaces 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G02B-011/04
출원번호	US-0385643 (2003-03-12)
우선권정보	DE-0011611 (2002-03-12)
발명자 / 주소	Luedecke, Jens Zazcek, Christoph Pazidis, Alexandra Ullmann, Jens Muehlpfordt, Annette Thier, Michael Wiesner, Stefan
출원인 / 주소	Carl Zeiss SMT AG
대리인 / 주소	Sughrue Mion, PLLC
인용정보	피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 9

초록 ▼

A method and a device for decontaminating optical surfaces, in particular for decontaminating the surfaces of beam-guiding optics employing UV-radiation in a cleansing atmosphere. The wavelength of the UV-radiation employed falls within a range where oxygen strongly absorbs and the cleansing atmosphere has an oxygen concentration less than that of air. The method and device have application to, e.g., cleaning the surfaces of the beam-guiding optics of microlithographic projection-exposure systems.

대표청구항 ▼

1. A method for decontaminating surfaces of beam-guiding optics, comprising:irradiating the surfaces to be cleaned with UV-radiation in a cleansing atmosphere,wherein the wavelength of the UV-radiation employed for cleaning falls within a spectral range where oxygen absorbs strongly and the cleansing atmosphere has an oxygen concentration less than that of air. 2. A method according to claim 1, wherein the surfaces are surfaces of optical elements of microlithographic projection-exposure systems. 3. A method according to claim 1, wherein the oxygen concentration in the cleansing atmosphere is less than 1%. 4. A method according to claim 3, wherein the oxygen concentration in the cleansing atmosphere is less 0.1%. 5. A method according to claim 1, wherein the UV-radiation employed for cleaning is excimer radiation from a Xe-discharge lamp whose wavelength range falls in a vicinity of 172 nm. 6. A method according to claim 1, wherein the UV-radiation employed for cleaning is radiation from a low-pressure Hg-lamp.

이 특허에 인용된 특허 (9)

Hase Tomoharu,JPX ; Yamane Yukio,JPX, Exposure apparatus and method of cleaning optical element of the same.
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Koizumi Yasuhiro (Sayama JPX) Torisawa Soichi (Tokyo JPX) Grtner Walter (Jena DDX) Dietz Gudrun (Jena-Lobeda DDX) Retschke Wolfgang (Jena DDX), Exposure of uniform fine pattern on photoresist.
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Wagner Stephen J. (Columbia MD), Inactivation of extracellular enveloped viruses in blood and blood components by phenthiazin-5-ium dyes plus light.
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Straaijer Alexander (Eindhoven NLX) Martens Jan W. D. (Veldhoven NLX), Lens system with lens elements arranged in a gas-filled holder and photolithographic apparatus including such a system.
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Hashimoto Sigeru (Yokohama JPX) Yokoyama Akihiko (Yokohama JPX), Multi-layered optical film.
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Akagawa Masayuki,JPX ; Yamashita Osamu,JPX ; Taniuchi Taichi,JPX, Optical device method of cleaning the same, projection aligner, and method of producing the same.
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Akagawa, Masayuki; Yamashita, Osamu; Taniuchi, Taichi, Optical device, method of cleaning the same, projection aligner, and method of producing the same.
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Aoki, Takashi, Optical instrument, gas replacement method and cleaning method of optical instrument, exposure apparatus, exposure method and manufacturing method for devices.
상세보기
Hashimoto Shigeru (Yokohama JPX) Yokoyama Akihiko (Yokohama JPX), Two-wavelength antireflection film.
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특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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