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[미국특허] Wafer container cleaning system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/02
출원번호 US-0286317 (2002-11-01)
발명자 / 주소
  • Dolechek, Kert
  • Davis, Jeffry
출원인 / 주소
  • Semitool, Inc.
대리인 / 주소
    Perkins Coie LLP
인용정보 피인용 횟수 : 7  인용 특허 : 25

초록

A system and method for cleaning boxes used for handling flat media includes a rotor rotatably mounted within an enclosure, with spray nozzles in the enclosure for spraying fluid toward the rotor. The rotor has at least one box holder assembly for holding a box. At least one retainer bar is located

대표청구항

1. A system for cleaning boxes used for handling flat media, comprising:a rotor rotatably mounted within an enclosure;spray nozzles in the enclosure for spraying fluid toward the rotor;at least one box holder assembly on the rotor for holding a box; andat least one retainer bar on the rotor for enga

이 특허에 인용된 특허 (25) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Coberly Robert A. (Alta Loma CA) Beck Mark J. (Cucamonga CA) Azlin Dan S. (Brea CA) Gifford Karl J. (Nashville TN), Apparatus for cleaning rinsing and drying substrates.
  2. Martensson Lars (Veberod SEX) Andersson Jan (Ystad SEX), Apparatus for treating package container blanks.
  3. Kawano Hitoshi (Ise JPX) Okuno Atsushi (Ise JPX) Tsuda Masanori (Ise JPX) Hayashi Mitsuhiro (Ise JPX) Yamashita Teppei (Ise JPX) Murata Masanao (Ise JPX) Tanaka Tsuyoshi (Ise JPX) Morita Teruya (Ise , Article storage house in a clean room.
  4. Kamimura Yasuo (Hachioji JPX) Ohmori Toshiaki (Itami JPX) Yanagi Motonori (Itami JPX) Fukumoto Takaaki (Itami JPX) Hama Masaharu (Itami JPX), Carrier cleaning and drying apparatus.
  5. Eric Chu TW; Hung-Hsien Chang TW; To-Yao Hsu TW; Chin-Wen Chung TW; Hsing-Sheng Yang TW, Cassette holder for cleaning equipment.
  6. Thompson Raymon F. (Lakeside MT) Owczarz Aleksander (Kalispell MT), Centrifugal wafer carrier cleaning apparatus.
  7. Thompson Raymon F. (Lakeside MT) Owczarz Aleksander (Kalispell MT), Centrifugal wafer carrier cleaning apparatus.
  8. Thompson Raymon F. ; Owczarz Aleksander, Centrifugal wafer carrier cleaning apparatus.
  9. Bardina Juan (Menlo Park CA) Gonzalez Mikel (San Jose CA), Decontamination apparatus for semiconductor wafer handling equipment.
  10. Phenix Robert B. (Milton VT) Tandy Winfield T. (Essex Junction VT), Device for decontaminating a semiconductor wafer container.
  11. Thompson, Raymon F.; Neil, Clif, Dual cassette centrifugal processor.
  12. Clapper Millard F. (Terrace Dr. R.D. #3 Binghamton NY 13901), Filter cleaning system.
  13. Huai-Tei Yang TW; Suan-Jun Kuan TW; Ching-Ling Lee TW; Kuo-Hung Liao TW, Method for dry cleaning a wafer container.
  14. Guldi Richard L. ; Brooks Jimmie, Method for processing wafers and cleaning wafer-handling implements.
  15. Leenaars Adriaan F. M. (Eindhoven NLX) Huethorst Johanna A. M. (Eindhoven NLX) Marra Johannes (Eindhoven NLX), Method for removing in a centrifuge a liquid from a surface of a substrate.
  16. Guldi Richard L. (Dallas TX) Kunesh Robert F. (Plano TX), Method for wafer carrier cleaning.
  17. Halbmaier David L., Method of cleaning a wafer carrier.
  18. Thompson Raymon F. ; Owczarz Aleksander, Methods for centrifugally cleaning wafer carriers.
  19. Yoshikawa Noriaki,JPX ; Yotsumoto Tadashi,JPX ; Muguruma Terumi,JPX ; Hasegawa Yoshitaka,JPX ; Kuroda Yuichi,JPX, Pod and method of cleaning it.
  20. Thompson Raymon F. (Kalispell MT) Owczarz Aleksander (Kalispell MT), Rinser dryer system.
  21. Jung Jae-hyung,KRX ; Yun Young-hwan,KRX ; Chang Ho-seung,KRX, Wafer cassette and cleaning system adopting the same.
  22. Bexten Daniel P. ; Norby Jerry R., Wafer container cleaning system.
  23. Bexten, Dan; Norby, Jerry, Wafer container cleaning system.
  24. Daniel P. Bexten ; Jerry R. Norby, Wafer container cleaning system.
  25. Kamikawa Yuuji (Uto JPX) Kuroda Kouki (Kurume JPX) Honda Yoshiyuki (Kumamoto JPX) Mukai Eiichi (Kurume JPX) Nishi Mitsuo (Kurume JPX), Washing system.

이 특허를 인용한 특허 (7) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Tenaglia, Dario; Cali, Sebastiano, Apparatus for processing semiconductor wafers, in particular for carrying out a polymers removal process step.
  2. Tenaglia, Dario; Cali, Sebastiano, Apparatus for processing semiconductor wafers, in particular for carrying out a polymers removal process step.
  3. Hosek, Martin; Sah, Sripati, Structured magnetic material having domains with insulated boundaries.
  4. Hosek, Martin; Sah, Sripati; Krishnasamy, Jayaraman, Structures utilizing a structured magnetic material and methods for making.
  5. Hosek, Martin; Sah, Sripati, System and method for making a structured magnetic material via layered particle deposition.
  6. Hosek, Martin; Sah, Sripati, System and method for making a structured magnetic material with integrated particle insulation.
  7. Hosek, Martin; Sah, Sripati, System and method for making structured magnetic material from insulated particles.

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