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특허 상세정보
Polyazido compounds
| 국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC7판) | C07J-04100 |
| 미국특허분류(USC) | 552/005; 552/007; 552/009; 552/010 |
| 출원번호 | US-0604778 (2003-08-15) |
| 발명자 / 주소 |
|
| 출원인 / 주소 |
|
| 인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 4 |
초록
This invention relates to a series of novel compounds having the general structures A and B: including 2-azido-2-azidomethyl-1,3-diazidopropane (1), 2-azidomethyl-2-hydroxy-1,3-diazidopropane (2), 2-azidomethyl-2-nitrato-1,3-diazidopropane (3), 2-azidomethyl-2-nitro-1,3-diazidopropane (4), 2,2-dinitro-1,3-diazidopropane (5), methallyidiazide (6), a dimer of methallyidiazide (6), comprising 3a,8a-Bis-azidomethyl-3a,4,8a,9-tetrahydro-3H,8H-bis[1,2,3]triazolo[1,5-a;1″,5″-d]pyrazine (6-Dimer), 1,3-diazidoacetone (7), and 2-Oximido-1,3-diazidopropane (8). Als...
대표
청구항
1. Polyazido carboxylic acid esters selected from the group consisting of benzene-1,3,5-tricarboxylic acid tris(2-azido-1,1-bisazidomethyl-ethyl)ester (14), adamantane 1,3,5,7-tetracarboxylic acid tetrakis(2-azido-1, 1-bisazidomethyl-ethyl)ester (15), adamantane carboxylic acid 2-azido-1,1-bisazidomethyl-ethyl)ester (16), cubane 1,3,5,7-tetracarboxylic acid tetrakis (2-azido-1,1-bisazidomethyl-ethyl)ester (17), and cubane 1,4-dicarboxylic acid bis(2-azido-1,1-bisazidomethyl-ethyl)ester (18).2. The polyazido carboxylic acid ester of claim 1 wherein the co...
이 특허에 인용된 특허 (4)
- Dehm Henry C. (Salt Lake City UT), Chemical case bond system with azido compound bonding.
- Inoue Eiichi (Tokyo JPX) Nakayama Takao (Yokohama JPX), Peel-apart-developable light-sensitive materials and image-forming method using the same.
- Frankel Milton B. (Tarzana CA) Wilson Edgar R. (Simi Valley CA), Polyazido esters.
- Frankel Milton B. (Tarzana CA) Wilson Edgar R. (Glendale CA) Flanagan Joseph E. (Woodland Hills CA), Tetraazido polyesters and methods of preparation.
