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Load storage equipment 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B65G-00100
출원번호 US-0235036 (2002-09-03)
우선권정보 JP-0262858 (2001-08-31)
발명자 / 주소
  • Inui, Yoshitaka
출원인 / 주소
  • Daifuku Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Goodwin Procter LLP
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 9

초록

Load storage equipment according to the present invention includes rotary racks 21, each of which is supported independently on a story 1 or 2, and which may not extend vertically through the slab 4 between the stories 1 and 2. The storage equipment also includes a transferrer 51 common to the rotar

대표청구항

1. A load storage system comprising:at least two rotary racks supported independently on respective stories; the rotary racks each rotatable on a first vertical axis; the rotary racks each including a plurality of load supports arranged circumferentially around the first vertical axis and arranged v

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Fukushima Masazumi,JPX ; Kawaguchi Masatomi,JPX, Automatic warehouse and transfer system using the same.
  2. Woodruff Daniel J. (Lyons CO) Hoekstra Daniel W. (Louisville CO) Scott Christopher L. (Englewood CO) Volckhausen Thomas W. (Boulder CO) Studebaker Thomas J. (Boulder CO) Younglove Bruce L. (Boulder C, Cartridge library and method of operation.
  3. Sugita Kazuhiro (Yokohama JPX), Heat treatment apparatus.
  4. Iwasaki Junji,JPX, Method and apparatus for controlling semiconductor wafer fabrication equipment based on a remaining process time applicable to the processors.
  5. Albert Hasper NL; Frank Huussen NL; Cornelis Marinus Kooijman NL; Theodorus Gerardus Maria Oosterlaken NL; Jack Herman Van Putten NL; Christianus Gerardus Maria Ridder NL; Gert-Jan Snijders NL, Method and device for transferring wafers.
  6. Leveen Lindsay, Microelectronic component fabrication facility, and process for making and using the facility.
  7. Wolfgang Volle DE, Reactor for the processing of wafers, with a protection device.
  8. Kakizaki Satoshi (Tokyo JPX) Karino Toshikazu (Tokyo JPX) Izumi Shoichiro (Tokyo JPX) Koizumi Mikio (Tokyo JPX) Ozawa Makoto (Tokyo JPX) Ikeda Fumihide (Tokyo JPX) Yoshida Tohru (Tokyo JPX) Saito Ryo, Semiconductor wafer reaction furnace with wafer transfer means.
  9. Sluijk, Boudewijn Gijsbert; De Ridder, Christianus Gerardus Maria, System for the treatment of wafers.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Gertmann, Reiner; König, Michael, Apparatus for providing a rotation carrier magazine, and method of operating thereof.
  2. den Hartog Besselink, Edwin; Garssen, Adriaan; Dirkmaat, Marco, Cassette holder assembly for a substrate cassette and holding member for use in such assembly.
  3. Yamamoto, Makoto, Clean stocker and method of storing articles.
  4. Bonora, Anthony C.; Gould, Richard H.; Krolak, Michael, Integrated systems for interfacing with substrate container storage systems.
  5. Lee, Choong Man; Yoo, Yong Min; Kim, Young Jae; Chun, Seung Ju; Kim, Sun Ja, Method of forming metal interconnection and method of fabricating semiconductor apparatus using the method.
  6. Raisanen, Petri; Givens, Michael Eugene, Methods for forming a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures.
  7. Margetis, Joe; Tolle, John; Bartlett, Gregory; Bhargava, Nupur, Process for forming a film on a substrate using multi-port injection assemblies.
  8. Nichols, Michael J.; Guarracina, Louis J., Self-sterilizing automated incubator.
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