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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0945385 (2001-08-31) |
우선권정보 | DE-0043279 (2000-09-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 0 |
A method and device for nozzle-injection of gas into molten glass is disclosed wherein a gas stream is introduced into the molten glass in a temporally pulsed throughput such that the gas stream is interrupted between two sequential pulses, the duration of each pulse amounting to less than one secon
1. Method for nozzle-injection of gas into molten glass, comprising:1.1 introducing a gas stream into a molten mass in a temporally pulsed, throughput; 1.2 interrupting the gas stream between two sequential pulses by creating a pressure-free phase; 1.3 wherein duration of the pulses amounts to less
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