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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0625336 (2000-07-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 28 인용 특허 : 180 |
A method and system to reduce the resistance of refractory metal layers by controlling the presence of fluorine contained therein. The present invention is based upon the discovery that when employing ALD techniques to form refractory metal layers on a substrate, the carrier gas employed impacts the
1. A method for forming a layer on a substrate disposed in a processing chamber, said method comprising:chemisorbing onto said substrate alternating monolayers of a first compound and a second compound, with said second compound having fluorine atoms associated therewith, with each of said first and
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