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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0752556 (2004-01-08) |
우선권정보 | JP-0328269 (1999-11-18) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 14 |
A silylation treatment unit includes a chamber, a heating mechanism provided in this chamber for heating a substrate, a supplying mechanism for supplying a vapor including a silylation reagent into the chamber. The unit also has a substrate holder for holding the substrate in the chamber, in which a
1. A method for performing a silylation treatment on the surface of a substrate, comprising the steps of:carrying the substrate into a chamber and disposing it at a predetermined interval from a heating mechanism provided in said chamber; supplying a vapor including a silylation reagent into said ch
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