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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0092465 (2002-03-08) |
우선권정보 | JP-0185713 (1998-06-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 3 |
The present invention is directed to a precious metal sputtering target having a columnar crystallographic microstructure such that crystals are grown in a direction normal to the sputtering surface in order to solve conventional problems. The high-purity sputtering target of the present invention p
1. A platinum sputtering target material, wherein said target material contains columnar crystals grown in a direction normal to a sputtering surface, and a ratio of an integral intensity of a (200) face to that of another arbitrary crystal face as determined by X-ray diffractometry is greater than
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