최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0122613 (2002-04-11) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 21 인용 특허 : 13 |
Method and apparatus for thermal management of an integrated circuit. A semiconductor device includes an integrated circuit and an integrated thermoelectric cooler formed on a common substrate. A semiconductor device is fabricated by forming an integrated circuit on a front side of the substrate and
1. A method of fabricating a semiconductor device comprising:forming an integrated circuit on a front side of a substrate; and forming an integrated thermoelectric cooler capable of cooling the integrated circuit on a back side of the substrate. 2. The method, as claimed in claim 1, wherein forming
해당 특허가 속한 카테고리에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.