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Cleaning method and apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/02
출원번호 US-0177789 (2002-06-20)
우선권정보 JP-0191202 (2001-06-25)
발명자 / 주소
  • Yoshida, Takashi
  • Iwasaki, Motoaki
  • Yano, Tatsuro
  • Habaya, Kurao
  • Shiroma, Takahiro
출원인 / 주소
  • Fuji Electric Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Hoffmann &
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 19

초록

The present invention can remove particles such as dust by flowing solvent gas such as CO2 through a line filter and eject it from a nozzle so as to be converted to solid particles or liquid droplets and eject to a workpiece to be cleaned so as to clean particles or organic materials. It is possible

대표청구항

1. A cleaning apparatus comprising:a container in which solvent is sealed therein; a temperature maintaining device which maintains the temperature of the solvent at a constant value; a CO2 gas line which introduces solvent gas contained in the container; a line filter which is disposed in an interm

이 특허에 인용된 특허 (19)

  1. Srikrishnan Kris V. (Wappingers Falls NY) Wu Jin J. (Ossining NY), Aerosol cleaning method.
  2. Whitlock Walter H. (Peapack NJ) Weltmer ; Jr. William R. (Murray Hill NJ) Clark James D. (Mountainside NJ), Apparatus and method for removing minute particles from a substrate.
  3. Sauvan Grard (Cagnes sur Mer FRX), Cleaning apparatus for electronic components and/or precision parts of machinery.
  4. Kamikawa, Yuji; Tanaka, Hiroshi, Cleaning method and cleaning apparatus for substrate.
  5. Leisa B. Davenhall ; James B. Rubin, Composition and method for removing photoresist materials from electronic components.
  6. Stanford,Jr. Thomas B. (San Pedro CA) Chao Sidney C. (Manhattan Beach CA), Low cost equipment for cleaning using liquefiable gases.
  7. Kuo Alex C. (Charleston WV) Nielsen Kenneth A. (Charleston WV) Condron James A. (Hurricane WV) Hoy Kenneth L. (St. Albans WV), Method and apparatus for metering and mixing non-compressible and compressible fluids.
  8. Wen Ziying, Method for chemical processing semiconductor wafers.
  9. Kodama Hiroyuki (Yokohama JPX), Method for cleaning a substrate.
  10. Hoy Kenneth L. (St. Albans WV) Nielsen Kenneth A. (Charleston WV), Methods for cleaning apparatus using compressed fluids.
  11. Danowski Thomas J. (Elgin IL) Dvorak Michael R. (Lemont IL), Parts washer with solvent flow control.
  12. Wagener Thomas J. ; Siefering Kevin L. ; Kunkel Pamela A. ; Weygand James F. ; Thomes Gregory P., Rotatable and translatable spray nozzle.
  13. Cutter Douglas J. ; Beigel Kurt D., Semiconductor junction antifuse circuit.
  14. Worm, Steven Lee; Cole, Michael E., Spray member and method for using the same.
  15. Costantini, Michael A.; Chandra, Mohan; Moritz, Heiko D.; Jafri, Ijaz H.; Mount, David J.; Heathwaite, Rick M., Supercritical fluid delivery and recovery system for semiconductor wafer processing.
  16. Goenka Lakhi N. (Ann Arbor MI), Supersonic exhaust nozzle having reduced noise levels for CO2 cleaning system.
  17. McDermott Wayne T. (Allentown PA) Ockovic Richard C. (Allentown PA) Wu Jin J. (Ossining NY) Cooper Douglas W. (Millwood NY) Schwarz Alexander (Allentown PA) Wolfe Henry L. (Pleasant Valley NY), Surface cleaning using a cryogenic aerosol.
  18. Peterson Ronald V. (Thousand Oaks CA) Krone-Schmidt Wilfried (Fullerton CA), System for precision cleaning by jet spray.
  19. Kanno Itaru,JPX ; Ohmori Toshiaki,JPX ; Tanaka Hiroshi,JPX ; Doi Nobuaki,JPX, Washing apparatus and washing method.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Spalteholz,Bernhard Alexander; Nielsen,Geoffrey Paul, Dry ice blasting cleaning apparatus.
  2. Inoue, Yuki; Fukunaga, Akira; Ogawa, Takahiro, Substrate processing method, substrate processing apparatus, and control program.
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