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특허 상세정보

Process for the selective decomposition of hydrazine in a hydrazine/substituted hydrazine/water mixture

국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) C01B-021/02    C01B-003/04    C01C-001/02   
미국특허분류(USC) 423/351; 423/352; 423/658.2
출원번호 US-0293700 (2002-11-14)
우선권정보 FR-0016217 (2001-12-14)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
대리인 / 주소
    Oliff &
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 6
초록

The present invention relates to a process for the selective decomposition of hydrazine in a hydrazine/substituted hydrazine/water mixture. A catalyst chosen from the group consisting of nickel supported on silica/alumina, the nickel-nickel oxide mixture supported on silica/alumina and rhodium supported on carbon is introduced into this mixture and then the mixture is heated at a temperature of between 60° C. and 120° C.

대표
청구항

1. Process for the selective decomposition of hydrazine in a hydrazine/substituted hydrazine/water mixture, wherein a catalyst chosen from the group consisting of nickel supported on silica/alumina a nickel?nickel oxide mixture supported on silica/alumina, and rhodium supported on carbon is introduced into the mixture and then the mixture is heated at a temperature of between 60° C. and 120° C.2. Process according to claim 1, wherein the catalyst comprises from 0.5% to 70% by weight of metal element with respect to the total weight of the catalyst.3. Pro...