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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0612177 (2003-07-01) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 23 인용 특허 : 4 |
Metallic films are grown with a “spongelike” morphology in the as-deposited condition using planar magnetron sputtering. The morphology of the deposit is characterized by metallic continuity in three dimensions with continuous and open porosity on the submicron scale. The stabilization of the sponge
1. A sputter deposition method comprising:providing a substrate; sputter depositing a metal onto said substrate under temperatures ranging from 0.4 to 0.6 of the melting temperature of the metal to form a coating having a three dimensional sub-micron porosity.
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