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Plating method and apparatus for controlling deposition on predetermined portions of a workpiece 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-018/00
  • C23C-014/00
  • C25D-005/02
  • C25D-005/34
  • C25D-005/18
출원번호 US-0961193 (2001-09-20)
발명자 / 주소
  • Basol, Bulent M.
출원인 / 주소
  • ASM Nutool, Inc.
대리인 / 주소
    Knobbe Martens Olson &
인용정보 피인용 횟수 : 20  인용 특허 : 4

초록

The present invention relates to methods and apparatus for plating a conductive material on a workpiece surface in a highly desirable manner. Using a workpiece-surface-influencing device, such as a mask or sweeper, that preferentially contacts the top surface of the workpiece, relative movement betw

대표청구항

1. A method of plating a conductive top surface of a workpiece, the conductive top surface of the workpiece including a top portion and a cavity portion, the method comprising:applying, over the conductive top surface of the workpiece, an electrolyte solution with at least one additive disposed ther

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Walton Erick Gregory ; Chung Dean S. ; Collins Lara Sandra ; Corbin ; Jr. William E. ; Deligianni Hariklia ; Edelstein Daniel Charles ; Fluegel James E. ; Korejwa Josef Warren ; Locke Peter S. ; Uzoh, Electroplating apparatus and method using a compressible contact.
  2. Talieh Homayoun, Method and apparatus for electro-chemical mechanical deposition.
  3. Cuneo ; Edward A. ; Kato ; Makoto ; Wilson ; Michael S. ; Pinkerton ; Aa ron L., Molded circuit board substrate.
  4. Basol, Bulent, Plating method and apparatus that creates a differential between additive disposed on a top surface and a cavity surface of a workpiece using an external influence.

이 특허를 인용한 특허 (20)

  1. Wang,Hung Ming; Basol,Bulent M.; Talieh,Homayoun, Efficient wafer processing technology.
  2. Ramarajan, Suresh; Lee, Whonchee, Electroplating systems.
  3. Ramarajan, Suresh; Lee, Whonchee, Electroplating systems.
  4. Mayer, Steven T.; Drewery, John S., Method and apparatus for uniform electropolishing of damascene IC structures by selective agitation.
  5. Okubo, Toshikazu; Naoi, Katsuyoshi; Yamada, Yuka, Method for analyzing copper electroplating solution, apparatus for the analysis, and method for fabricating semiconductor product.
  6. Okubo, Toshikazu; Naoi, Katsuyoshi; Yamada, Yuka, Method for analyzing electrolytic copper plating solution.
  7. Hsu, Hsin-Kuo; Hsu, Li-Chieh; Chen, Hsiang-Hao; Hsueh, Chung-Wei, Method for manufacturing semiconductor device and device manufactured using the same.
  8. Mayer,Steven T.; Reid,Jonathan D.; Rea,Mark L.; Emesh,Ismail T.; Meinhold,Henner W.; Drewery,John S., Method for planar electroplating.
  9. Reid, Jonathan; Varadarajan, Sesha; Emekli, Ugur, Methods and apparatus for depositing copper on tungsten.
  10. Reid, Jonathan; Varadarajan, Sesha; Emekli, Ugur, Methods and apparatus for depositing copper on tungsten.
  11. Zierath,Daniel J; Chikarmane,Vinay; Dubin,Valery M, Modified electroplating solution components in a low-acid electrolyte solution.
  12. Mayer, Steven T.; Porter, David W., Modulated metal removal using localized wet etching.
  13. Mayer, Steven T.; Drewery, John Stephen; Webb, Eric G., Photoresist-free metal deposition.
  14. Basol, Bulent M., Plating method and apparatus for controlling deposition on predetermined portions of a workpiece.
  15. Basol, Bulent M., Plating methods for low aspect ratio cavities.
  16. Mayer, Steven T.; Drewery, John S.; Hill, Richard S.; Archer, Timothy M.; Kepten, Avishai, Selective electrochemical accelerator removal.
  17. Mayer, Steven T.; Drewery, John; Hill, Richard S.; Archer, Timothy; Kepten, Avishai, Selective electrochemical accelerator removal.
  18. Mayer, Steven T.; Stowell, Marshall R.; Drewery, John S.; Hill, Richard S.; Archer, Timothy M.; Kepten, Avishai, Selective electrochemical accelerator removal.
  19. Mayer, Steven T.; Rea, Mark L.; Hill, Richard S.; Kepten, Avishai; Stowell, R. Marshall; Webb, Eric G., Topography reduction and control by selective accelerator removal.
  20. Mayer, Steven T.; Rea, Mark L.; Hill, Richard S.; Kepten, Avishai; Stowell, R. Marshall; Webb, Eric G., Topography reduction and control by selective accelerator removal.
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