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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0411212 (2003-04-11) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 8 |
An aluminum alloy sputter target having a sputter target face for sputtering the sputter target is disclosed. The sputter target face has a textured-metastable grain structure. The textured-metastable grain structure has a grain orientation ratio of at least 35 percent (200) orientation. The texture
1. A method of forming aluminum alloy sputter targets comprising the steps of:a) cooling an aluminum alloy target blank to a temperature of less than about ?50° C., the aluminum alloy target blank having grains and the grains having a grain size; b) bulk compresssive straining the cooled aluminum al
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