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Ozone treating apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01F-001/00
  • B01D-071/36
  • C02F-001/78
출원번호 US-0169946 (2001-01-12)
우선권정보 JP-0003704 (2000-01-12); JP-0136052 (2000-05-09); JP-0151565 (2000-05-23); JP-0241312 (2000-08-09)
국제출원번호 PCT//JP01/00121 (2002-10-30)
§371/§102 date 20021030 (20021030)
국제공개번호 WO01//51187 (2001-07-19)
발명자 / 주소
  • Yamazaki, Kazutoshi
  • Shirato, Kozo
  • Kawashima, Kazuyasu
  • Sato, Akira
  • Nagai, Akihiko
출원인 / 주소
  • Sekisui Chemical Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Sughrue Mion, PLLC
인용정보 피인용 횟수 : 9  인용 특허 : 8

초록

The present invention provides an ozonization apparatus which is not only capable of dissolving ozone in material water with high efficiency and speedily but also enables the easy and proper control of the dissolved ozone concentration of ozone water.The present invention relates to an ozonization a

대표청구항

1. An ozonization apparatus comprisingan ozone gas-permeable membrane disposed to isolate material water and ozone gas from each other and allow said ozone gas to be dissolved in said material water by permeation, said ozone gas-permeable membrane being a nonporous hollow tube which is selectively g

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Zuback Joseph E. (Camarillo CA), Dissolved gas stripping apparatus.
  2. Matsui Nobuya (Osaka JPX) Morimura Yasuhiro (Tokyo JPX) Kunisaki Shinichi (Osaka JPX) Fujiwara Goro (Osaka JPX) Masuda Mitsunobu (Osaka JPX) Kanazawa Masaru (Kyoto JPX), Germfree drinking water dispenser.
  3. Mitsumori Kenichi,JPX ; Oh Eui-Yeol,JPX ; Kasama Yasuhiko,JPX ; Ohmi Tadahiro,JPX ; Imaoka Takashi,JPX, Method and device for preparing cleaning solution.
  4. Nemser Stuart Marshall ; Olpin Jay, Method of gasifying or degasifying a liquid.
  5. Nemser Stuart Marshall ; Olpin Jay, Method of gasifying or degasifying a liquid containing cells.
  6. Saito Takayuki (Kanagawa JPX) Nakajima Ken (Kanagawa JPX) Iwase Yoki (Kanagawa JPX) Ikeda Yukio (Tokyo JPX) Shima Hiroyuki (Kanagawa JPX), Process and system for purifying pure water or ultrapure water.
  7. Nelson William R., System for treating liquids with a gas.
  8. Faivre Michel (Acheres FRX) Tazy-Pain Annie (Asnieres FRX), Water treatment installation for a tangential filtration loop.

이 특허를 인용한 특허 (9)

  1. Gerner, Yuri; Sims, Carl W.; Thielen, Thomas J., Axial transfer line degassing.
  2. Sims, Carl; Gerner, Yuri; Liu, Quan, Fluid degassing apparatus.
  3. De Jong, Anthonius Martinus Cornelis Petrus; Jansen, Hans; Leenders, Martinus Hendrikus Antonius; Van Der Net, Antonius Johannus; Wanten, Peter Franciscus; Van Der Donck, Jacques Cor Johan; Watso, Robert Douglas; Van Den Dool, Teunis Cornelis; Schuh, Nadja; Cromwijk, Jan Willem, Lithographic apparatus and contamination removal or prevention method.
  4. De Jong, Anthonius Martinus Cornelis Petrus; Jansen, Hans; Leenders, Martinus Hendrikus Antonius; Van Der Net, Antonius Johannus; Wanten, Peter Franciscus; Van Der Donck, Jacques Cor Johan; Watso, Robert Douglas; Van Den Dool, Teunis Cornelis; Schuh, Nadja; Cromwijk, Jan Willem, Lithographic apparatus and contamination removal or prevention method.
  5. Leenders, Martinus Hendrikus Antonius; Van Dommelen, Youri Johannes Laurentius Maria; Jansen, Hans; Watso, Robert Douglas; De Jong, Anthonius Martinus Cornelis Petrus; Cromwijk, Jan Willem; Laursen, Thomas, Lithographic apparatus, reflective member and a method of irradiating the underside of a liquid supply system.
  6. Sims, Carl W.; Gerner, Yuri; Liu, Quan, Supersaturated fluid degassing.
  7. Glazer, Sanford A.; Norton, William D., System and method for processing waste material.
  8. Glazer, Sanford; Norton, William D., System and method for processing waste material.
  9. Glazer, Sanford; Norton, William D., System and method for processing waste material.
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