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Exhaust gas treating device 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F23J-015/00
  • F23G-007/06
출원번호 US-0857025 (1999-11-29)
우선권정보 JP-10/342243 (1998-12-01); JP-11/255855 (1999-09-09); JP-11/315271 (1999-11-05)
국제출원번호 PCT//JP99/06632 (2001-05-31)
§371/§102 date 20010531 (20010531)
국제공개번호 WO00//32990 (2000-06-08)
발명자 / 주소
  • Kawamura, Kotaro
  • Nakamura, Rikiya
  • Shirao, Yuji
  • Takemura, Yoshiro
  • Okuda, Kazutaka
  • Tsuji, Takeshi
출원인 / 주소
  • Ebara Corporation
대리인 / 주소
    Wenderoth, Lind &
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 11

초록

A waste gas treatment system having a burner part and a combustion chamber provided at a downstream side of the burner part. Combustion flames are formed from the burner part toward the combustion chamber, and a waste gas is introduced into the combustion flames, thereby oxidatively decomposing the

대표청구항

1. A waste gas treatment system comprising:a burner part; anda combustion chamber provided at a downstream side of said burner part, wherein combustion flames are formed from said burner part toward said combustion chamber and a waste gas is introduced into the combustion flames, thereby oxidatively

이 특허에 인용된 특허 (11)

  1. Henkelmann Gary L. (Elgin IL), Apparatus and method for rendering volatile organic compounds harmless.
  2. Bartz David (Santa Clara CA) Kendall Robert M. (Sunnyvale CA) Moreno Frederick E. (Los Altos CA), Apparatus for combustive destruction of troublesome substances.
  3. Lipp Charles W. (Baton Rouge LA), Apparatus for use with pressurized reactors.
  4. Ahmady Farshid (Rochester Hills MI), Burner element of woven ceramic fiber, and infrared heater for fluid immersion apparatus including the same.
  5. Endoh Fumitaka,JPX ; Yamada Maya,JPX ; Koseki Shuichi,JPX ; Miyake Shinichi,JPX ; Nitta Akihiko,JPX ; Sugimori Yoshiaki,JPX, Combustion type harmful substance removing apparatus.
  6. Bartz David (Santa Clara CA) Kendall Robert M. (Sunnyvale CA) Moreno Frederick E. (Los Altos CA), Combustive destruction of halogenated compounds.
  7. Goetschius George W. (Wellsville NY), Fume incinerator with gas cooled burner.
  8. Holmer, Larry G., Gas-fired radiant burner.
  9. Pritchard Francis E. (Buffalo NY) Koederitz Eugene H. (Westfield NJ) Fuhrhop Ronald E. (Orchard Park NY) Barker ; Jr. Thomas H. (Kingman AZ), Mechanical wiper for waste gas incinerator.
  10. Konagaya Yoshiaki (Yokohama JPX) Tanaka Tooru (Yokohama JPX) Takaine Masami (Yokohama JPX) Tsubouchi Toshihiro (Zama JPX), Process for treating combustible exhaust gases containing silane and the like.
  11. Smith James Robert,GBX ; Seeley Andrew James,GBX, Removal of noxious substances from gas streams.

이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Ferron, Shawn; Kelly, John; Vermeulen, Robbert, Apparatus and method for controlled combustion of gaseous pollutants.
  2. Kashiwagi, Seiji; Kawamura, Kotaro, Combustion-type exhaust gas treatment apparatus.
  3. Lenk, Andreas, Device for continuously mixing fed-out natural gas with oxygen to produce a burnable gas for heating the pressurized natural gas before or after the relaxation thereof.
  4. Smelcer, Jim C.; Iske, Brian J.; Rolph, Neil W.; Doura, Mohamed M., Integrated dual chamber burner with remote communicating flame strip.
  5. Kim, Jong Chul; Chung, Jong Kook; Lee, Sung Wook; Roh, Wan Gi; Kim, Sun Ho; Kang, Suk-Ho, Low-pollution burning method using system for individually controlling CO and NOx.
  6. Hong, Jianhui; Smirnov, Valeriy, Method and apparatus for a dual mode burner yielding low NOx emission.
  7. Sarres, Rolf; van de Kamp, Wilhelm, Method and industrial furnace for using a residual protective gas as a heating gas.
  8. Clark, Daniel O.; Raoux, Sebastien; Vermeulen, Robert M.; Crawford, Shaun W., Methods and apparatus for sensing characteristics of the contents of a process abatement reactor.
  9. Chiu, Ho-Man Rodney; Clark, Daniel O.; Crawford, Shaun W.; Jung, Jay J.; Loldj, Youssef A.; Vermeulen, Robbert M., Methods for starting and operating a thermal abatement system.
  10. Tamata,Shin; Yabutani,Takashi, Process for treating perfluorides.
  11. Chiu, Ho-Man Rodney; Clark, Daniel O.; Crawford, Shaun W.; Jung, Jay J.; Todd, Leonard B.; Vermeulen, Robbert, Reactor design to reduce particle deposition during process abatement.
  12. Chiu, Ho-Man Rodney; Clark, Daniel O.; Crawford, Shaun W.; Jung, Jay J.; Loldj, Youssef A.; Vermeulen, Robbert, Safety, monitoring and control features for thermal abatement reactor.
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