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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0030723 (2000-07-10) |
국제출원번호 | PCT//US00/18797 (2002-07-11) |
§371/§102 date | 20020711 (20020711) |
국제공개번호 | WO01//05197 (2001-01-18) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 21 인용 특허 : 64 |
A plasma treatment system (10) and related methods for rapidly treating a workpiece (56) with ions from a plasma having an ion density that is reproducibly uniform and symmetrical. The processing chamber (12) of the plasma treatment system (10) includes a chamber (14) lid having a symmetrical array
1. An apparatus for treating a workpiece with a plasma, comprising:a chamber having a processing space and a wall;a gas supply port in said chamber for introducing a process gas into said processing space;a workpiece holding portion positioned in said processing space and configured for holding the
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