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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0736202 (2003-12-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 178 |
In a first aspect, a first apparatus is provided for heating substrates. The first apparatus includes (1) a chamber having a bottom portion and a top portion; (2) a plurality of heated supports disposed within the chamber to support at least two substrates thereon; and (3) a heater disposed within t
The invention claimed is: 1. An apparatus for heating substrates, comprising: a chamber having a bottom portion and a top portion; a plurality of heated supports disposed within the chamber to support at least two substrates thereon; and a heater disposed within the chamber between a sidewall of
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