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Laser treatment apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • A61B-018/20
출원번호 US-0260287 (2002-10-01)
우선권정보 JP-2000-112248(2000-04-13); JP-2001-078636(2001-03-19)
발명자 / 주소
  • Owa,Soichi
  • Ohthuki,Tomoko
출원인 / 주소
  • Nikon Corporation
대리인 / 주소
    Morgan, Lewis &
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 11

초록

A laser treatment apparatus is constructed from a [a] laser apparatus 10 equipped with a laser light generating device 11 which has a solid-state laser 12 that generates a specified laser light, a fiber light amplifier 20 that amplifies the laser light generated by this laser light generating devic

대표청구항

The invention claimed is: 1. A laser treatment apparatus comprising: a laser apparatus, including: a laser light generating device having a solid-state laser that generates laser light of a specified wavelength, a light amplifier that amplifies the laser light generated by the laser light generatin

이 특허에 인용된 특허 (11)

  1. Knopp Carl F. ; Fountain William D. ; Orkiszewski Jerzy ; Persiantsev Michael ; Sklar H. Alfred ; Wysopal Jan, Automated laser workstation for high precision surgical and industrial interventions.
  2. Sumiya Toshifumi,JPX ; Arashima Mikio,JPX ; Kanda Hidenori,JPX, Corneal surgery apparatus.
  3. Ruiz Luis Antonio,COX, Interactive corrective eye surgery system with topography and laser system interface.
  4. Nakamura Takua (Aichi JPX) Sugiyama Kazuharu (Anjo JPX), Laser beam and ablating apparatus and related method.
  5. Marshall John (Farnborough MA GB3) Muller David F. (Boston MA), Laser corneal surgery.
  6. Muller David F. (Boston MA), Laser reprofiling system employing a photodecomposable mask.
  7. Abe Hitoshi,JPX, Laser treatment apparatus.
  8. Tomita Seiki,JPX, Laser treatment apparatus.
  9. Herekar Satish V. ; Woodward Benjamin W., Method and apparatus for exposing a human eye to a controlled pattern of radiation.
  10. Neev Joseph, Method and apparatus for high precision variable rate material removal and modification.
  11. Ohtsuki, Tomoko; Owa, Soichi, Ultraviolet laser apparatus and exposure apparatus using same.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Otsu, Yasuhide; Eda, Tatsuo, Method and apparatus for processing brittle material.
  2. Otsu,Yasuhide; Eda,Tatsuo, Method and system for machining fragile material.
  3. Ter-Mikirtychev, Valeri V., Ultraviolet fiber laser system.
  4. Tokuhisa,Akira; Oshita,Yoshinori, Wavelength converting optical system, laser light source, exposure apparatus, device for inspecting object of inspection, and polymer crystal working apparatus.
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