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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0446876 (2003-05-29) |
우선권정보 | JP-2000-241267(2000-08-09) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 21 |
A plurality of metal wire layers consisting of a first metal wire layer and a second metal wire layer are formed on a semiconductor substrate. A fluorinated silicate glass film serving as an interlayer metal dielectric film is formed between the first and second metal wire layers. A silicon nitride
What is claimed is: 1. A semiconductor device comprising: a semiconductor substrate; a plurality of metal wire layers formed on said semiconductor substrate, comprising a highest metal wire layer and a plurality of lower metal wire layers underlying said highest metal wire layer; a plurality of flu
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