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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0430703 (2003-05-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 88 인용 특허 : 31 |
A method forms a gate stack for a semiconductor device with a desired work function of the gate electrode. The work function is adjusted by changing the overall electronegativity of the gate electrode material in the region that determines the work function of the gate electrode during the gate elec
What is claimed is: 1. A method of fabricating a semiconductor device, comprising depositing a gate dielectric layer over a semiconductor substrate; forming a gate electrode comprising a lower part and an upper part over the gate dielectric layer, the gate dielectric layer and the gate electrode fo
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