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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0675939 (2003-10-02) |
우선권정보 | JP-10-369447(1998-12-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 60 |
An apparatus and method recycles the abrasive fluid or slurry effluent used in the polishing step in the manufacture of semiconductors. Agglomerations of abrasive grains built up in the slurry effluent are crushed using a mill, ultrasonic oscillation, or pressurized circulation. The slurry effluent
What is claimed is: 1. In a chemical-mechanical polishing system, the improvement comprising: an apparatus for reusing a slurry effluent containing agglomerations of abrasive grains which has been used in a polishing step in the manufacture of a semiconductor, comprising: a crusher for crushing the
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