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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0294727 (2002-11-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 6 |
A method for forming a monitoring deposit on a substrate comprises determining a temperature range to subject the substrate to provide a high temperature of operation up to less than a critical substrate deterioration temperature; selecting a binder to monitor temperature by emitting an indicator wi
What is claimed is: 1. A method for forming a monitoring deposit on a substrate, comprising: determining a temperature range in which the substrate is subjected to a high temperature of operation up to less than a critical substrate deterioration temperature; selecting a binder to monitor temperat
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