[특허]Near-field exposure method

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Near-field exposure method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03F-007/20
출원번호	US-0654913 (2003-09-05)
우선권정보	JP-2002-261293(2002-09-06)
발명자 / 주소	Inao,Yasuhisa Kuroda,Ryo Mizutani,Natsuhiko
출원인 / 주소	Canon Kabushiki Kaisha
대리인 / 주소	Fitzpatrick, Cella, Harper &
인용정보	피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 7

초록 ▼

A method for exposing a workpiece on the basis of near-field light escaping from an exposure mask having a light blocking film with a plurality of rectangular openings. The method includes protecting non-polarized near-field exposure light from a light source through the openings of the exposure mask to perform exposure of a pattern on the workpiece. The widths of the rectangular openings are smaller than that at a cross-point between a first curve on a coordinate of widths of the openings versus a near-field light intensity for an incident-light electric-field direction perpendicular to a lengthwise direction of a small-opening pattern and a second curve on the same coordinate for an incident-light electric-field direction parallel to the lengthwise direction of the small-opening pattern.

대표청구항 ▼

What is claimed is: 1. An exposure method for exposing a workpiece on the basis of near-field light escaping from openings of an exposure mask, the method comprising: projecting non-polarized exposure light from a light source onto the exposure mask having a light blocking film formed with a plurality of rectangular openings therein; and performing exposure of a pattern on the basis of the openings with near-field light escaping from the openings, wherein the widths of the openings are smaller than that at a cross-point between a first curve on a coordinate of widths of the openings versus a near-field light intensity for an incident-light electric-field direction perpendicular to a lengthwise direction of a small-opening pattern and a second curve on the same coordinate for an incident-light electric-field direction parallel to the lengthwise direction of the small-opening pattern.

이 특허에 인용된 특허 (7)

Ebbesen Thomas W. ; Grupp Daniel E. ; Thio Tineke ; Lezec Henri J.,FRX, Enhanced optical transmission apparatus utilizing metal films having apertures and periodic surface topography.
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Kuroda Ryo,JPX ; Ikeda Tsutomu,JPX ; Shimada Yasuhiro,JPX, Exposure method and exposure apparatus.
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Kuroda Ryo,JPX ; Ohyama Junji,JPX, Mask for evanescent light exposure, object to be exposed and apparatus using same.
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Savant Gajendra D. ; Kupiec Stephen A. ; Jannson Joanna L., Method and apparatus for making optical master surface diffusers suitable for producing large format optical components.
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Molsen, Henning, Optical element, a method of making a display device and a display device comprising an optical element.
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Yamaguchi, Takako; Kuroda, Ryo, Pattern forming apparatus and pattern forming method.
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Goodberlet James G., Very-high-density memory device utilizing a scintillating data-storage medium.
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이 특허를 인용한 특허 (3)

Inao, Yasuhisa; Kuroda, Ryo; Mizutani, Natsuhiko, Exposure apparatus, exposure method, and exposure mask.
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Ito, Toshiki; Mizutani, Natsuhiko, Near-field exposure mask, near-field exposure apparatus, and near-field exposure method.
상세보기
Mizutani, Natsuhiko; Inao, Yasuhisa, Near-field exposure method.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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