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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) | C25D-001/10 C25D-001/00 C21D-001/26 |
미국특허분류(USC) | 249/135; 148/516; 148/675; 205/070 |
출원번호 | US-0952649 (2004-09-29) |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 | |
대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 22 |
A method for annealing a structure formed by electrodeposition is provided, the method comprising providing the electrodeposition structure, the electrodeposition structure comprising an electroformed mold, the electroformed mold having a nominal thickness between and including 0.5 mm to 8.0 mm and having a melting temperature; heating the electrodeposition structure to a temperature between ambient temperature and the melting temperature of the electrodeposition structure; isostatically pressurizing the electrodeposition structure to a pressure above am...
We claim: 1. An electroformed mold comprising an electrodeposition structure, comprising an annealed metallic material having an elongation at break between about 48-55%, with a standard deviation of about 2.0%. 2. The electroformed mold of claim 1 wherein said metallic material has a tensile strength at break between about 340-383 MPa. 3. The electroformed mold of claim 1 wherein said metallic material has a cross-sectional structure comprising layers of material wherein said layers comprise a non-laminar grain structure.