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특허 상세정보

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Thermal control system and method

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) F25B-041/00    F25B-049/00    F25B-001/00   
미국특허분류(USC) 062/196.4; 062/222; 062/224; 062/513
출원번호 US-0057383 (2005-02-15)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
대리인 / 주소
    Jones, Tullar & Cooper, PC
인용정보 피인용 횟수 : 31  인용 특허 : 6
초록이 없습니다.
대표청구항이 없습니다

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Fujii Toshiro,JPX ; Okabe Takanori,JPX ; Yokomachi Naoya,JPX. Air conditioning system and compressor. USP2001066250093.
  2. Schwartz Jay H. ; Schwartz Abraham. Combination air conditioning system and water heater. USP1999055906104.
  3. Lowes Albert R. (Auburn CA). Constant temperature maintaining refrigeration system using proportional flow throttling valve and controlled bypass loo. USP1988054742689.
  4. Goth, Gary F.; Hickey, Jody A.; Kearney, Daniel J.; Makowicki, Robert. Method for shutting down a refrigerating unit. USP2003116644048.
  5. Williams Donald C. ; Dorn Daniel. Self-contained refrigeration system and a method of high temperature operation thereof. USP1999095946925.
  6. Hirota Hisatoshi,JPX. Vehicular refrigerating cycle with a bypass line. USP2001086279331.

이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 31

  1. Gielda, Thomas; Debus, Kristian; Harman, Jay; Tomasi, Don. Battery cooling. USP2013088505322.
  2. Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Buchberger, Jr., Douglas A.; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.. Capacitively coupled plasma reactor having a cooled/heated wafer support with uniform temperature distribution. USP2012018092638.
  3. Buchberger, Jr., Douglas A.; Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.. Capacitively coupled plasma reactor having very agile wafer temperature control. USP2012048157951.
  4. Buchberger, Jr., Douglas A.; Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac. Capacitively coupled plasma reactor having very agile wafer temperature control. USP2012128337660.
  5. Charamko, Serguei; Debus, Kristian; Gielda, Tom. Cooling of heat intensive systems. USP2014098820114.
  6. Harman, Jayden David; Gielda, Thomas. Heat exchange and cooling systems. USP2014118887525.
  7. Harman, Jayden David; Gielda, Thomas. Heating and cooling of working fluids. USP2013018359872.
  8. Robinson, Anthony. Heating and/or cooling system for maintaining an environment at a desired temperature. USP2016059328931.
  9. Ptasienski, Kevin; Smith, Kevin Robert; Swanson, Cal Thomas; Schmidt, Philip Steven; Nosrati, Mohammad; Lindley, Jacob Robert; Boldt, Allen Norman; Zhang, Sanhong; Steinhauser, Louis P.; Grimard, Dennis Stanley. High definition heater system having a fluid medium. USP2017019553006.
  10. Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn. Method and apparatus for thermal exchange with two-phase media. USP2016069372020.
  11. Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn. Method and apparatus for thermal exchange with two-phase media. USP2013098532832.
  12. Buchberger, Jr., Douglas A.; Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, Williams W.; Zubillaga, Glenn W.; Millian, Isaac. Method for agile workpiece temperature control in a plasma reactor using a thermal model. USP2011098021521.
  13. Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Buchberger, Jr., Douglas A.; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.. Method of cooling a wafer support at a uniform temperature in a capacitively coupled plasma reactor. USP2011108034180.
  14. Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Buchberger, Jr., Douglas A.; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac. Method of cooling a wafer support at a uniform temperature in a capacitively coupled plasma reactor. USP2014088801893.
  15. Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Buchberger, Jr., Douglas A.; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac. Method of operating a capacitively coupled plasma reactor with dual temperature control loops. USP2011087988872.
  16. Buchberger, Jr., Douglas A.; Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac. Method of processing a workpiece in a plasma reactor using feed forward thermal control. USP2012128329586.
  17. Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Buchberger, Jr., Douglas A.; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac. Method of processing a workpiece in a plasma reactor using multiple zone feed forward thermal control. USP2013108546267.
  18. Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Buchberger, Jr., Douglas A.; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.. Plasma reactor with a multiple zone thermal control feed forward control apparatus. USP2011098012304.
  19. Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Buchberger, Jr., Douglas A.; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac. Plasma reactor with a multiple zone thermal control feed forward control apparatus. USP2015038980044.
  20. Buchberger, Jr., Douglas A.; Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.. Plasma reactor with feed forward thermal control system using a thermal model for accommodating RF power changes or wafer temperature changes. USP2013128608900.
  21. Buchberger, Jr., Douglas A.; Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac. Plasma reactor with feed forward thermal control system using a thermal model for accommodating RF power changes or wafer temperature changes. USP2012018092639.
  22. Buchberger, Jr., Douglas A.; Brillhart, Paul Lukas; Fovell, Richard; Tavassoli, Hamid; Burns, Douglas H.; Bera, Kallol; Hoffman, Daniel J.; Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Millan, Isaac. Plasma reactor with wafer backside thermal loop, two-phase internal pedestal thermal loop and a control processor governing both loops. USP2012078221580.
  23. Harman, Jayden; Gielda, Thomas. Supersonic cooling system. USP2012128333080.
  24. Harman, Jayden; Gielda, Thomas. Supersonic cooling system. USP2013018353169.
  25. Harman, Jayden David; Gielda, Thomas. System and method for heat transfer. USP2013028365540.
  26. Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn. System and method for thermal control of different heat loads from a single source of saturated fluids. USP2013068453468.
  27. Cowans, Kenneth W.; Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn. Temperature control system and method TDSF plus. USP2016069360243.
  28. Cowans, Kenneth W.; Antoniou, Matthew; Zubillaga, Glenn; Cowans, William W.. Thermal control system and method. USP2012088240160.
  29. Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Cowans, Kenneth W.. Thermal control system and method. USP2014048689575.
  30. Cowans, William W.; Zubillaga, Glenn W.; Cowans, Kenneth W.. Thermal control system and method. USP2012108291719.
  31. Harman, Jayden; Gielda, Thomas. Thermodynamic cycle for cooling a working fluid. USP2013018353168.

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