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Heat treatment system and a method for cooling a loading chamber 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F27D-005/00
출원번호 US-0939432 (2004-09-14)
우선권정보 JP-2000-253201(2000-08-23); JP-2000-372098(2000-12-06); JP-2000-372099(2000-12-06); JP-2001-004971(2001-01-12)
발명자 / 주소
  • Mochizuki,Shinya
  • Akimoto,Motoki
출원인 / 주소
  • Tokyo Electron Limited
대리인 / 주소
    Smith, Gambrell & Russell, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 5  인용 특허 : 16

초록

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대표청구항

대표청구항이 없습니다.

이 특허에 인용된 특허 (16)

  1. Tanahashi Takashi (Sagamihara JPX) Moriya Syuji (Yamanashi JPX) Wakabayashi Tsuyoshi (Kofu JPX) Matsuo Takenobu (Kofu JPX), Air cleaning apparatus.
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  2. Muka Richard S., Automated wafer buffer for use with wafer processing equipment.
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  3. Ishii Katsumi (Fujino JPX) Asano Takanobu (Yokohama JPX) Abe Masaharu (Sagamihara JPX) Yamaga Kenichi (Sagamihara JPX) Sakata Kazunari (Sagamihara JPX) Tanahashi Takashi (Machida JPX) Moriya Syuji (Y, Clean air apparatus.
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  4. Shirakawa Eiichi,JPX ; Sata Nobuyuki,JPX, Heat treatment apparatus.
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  5. Kodama Shunsaku (Shiga JPX) Shima Yasumasa (Shiga JPX) Kohara Shigeru (Shiga JPX) Ohashi Yasuhiko (Shiga JPX), Method and apparatus for transferring wafers from wafer carrier to wafer conveyor apparatus in carrierless wafer surface.
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  6. Tanigawa Osamu,JPX, Method of transferring target substrates in semiconductor processing system.
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  7. Kazunari Sakata JP; Tamotsu Tanifuji JP; Masahiro Ogawa JP, Opening and closing apparatus of an opening and closing lid of a box accommodating an object to be processed and a processing system of an object to be processed.
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  8. Kikuchi Hisashi,JPX ; Ishii Katsumi,JPX, Processing method and processing unit for substrate.
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  9. Ishii Katsumi,JPX, Processing unit for substrate manufacture.
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  10. Bonora, Anthony C.; Martin, Raymond S.; Netsch, Robert; Oen, Joshua T.; Mosier, Terry; Fosnight, William J., SMIF pod storage, delivery and retrieval system.
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  11. Weaver Robert A., Semiconductor furnace processing vessel base.
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  12. Iwai Hiroyuki (Sagamihara JPX) Tanifuji Tamotsu (Yamato JPX) Asano Takanobu (Yokohama JPX) Okura Ryoichi (Kanagawa-ken JPX), Treatment apparatus.
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  13. Iwai Hiroyuki,JPX ; Tanifuji Tamotsu,JPX ; Asano Takanobu,JPX ; Okura Ryoichi,JPX, Treatment apparatus.
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  14. Ishii Katsumi (Fujino JPX) Asano Takanobu (Yokohama JPX) Abe Masaharu (Sagamihara JPX), Vertical heat treating apparatus.
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  15. Ohsawa Tetsu (Sagamihara JPX), Vertical heat treating device.
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  16. Iwabuchi Katsuhiko (Sagamihara JPX) Takanabe Eiichirou (Kanagawa-Ken JPX), Wafer processing apparatus.
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이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. Gupta, Nitu; Rieke, Larry D.; Foxworthy, Edward, Furnace door latch assembly.
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  2. Hishiya, Katsuyuki; Takahashi, Kiichi, Processing system for process object and thermal processing method for process object.
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  3. Rebstock, Lutz, Scalable stockers with automatic handling buffer.
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  4. Rebstock, Lutz, Scalable stockers with automatic handling buffer.
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  5. Nagata, Tomoyuki; Hasegawa, Tomoya, Wafer boat support table and heat treatment apparatus using the same.
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