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[미국특허] Wafer container washing apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/02
출원번호 US-0282924 (2002-10-29)
발명자 / 주소
  • Halbmaier,David L.
  • Gregerson,Barry
출원인 / 주소
  • Entegris, Inc.
대리인 / 주소
    Patterson, Thuente, Skaar & Christensen, P.A.
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 35

초록

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대표청구항

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이 특허에 인용된 특허 (35) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Hill ; III Walter E. (Littleton CO) Skulborstad Dale J. (Littleton CO) Howard ; Jr. John B. (Littleton CO) Marts Kenneth P. (Morrsion CO), Alcohol spray cleaning system.
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  2. Levey William D. (Oakland CA) Sell William J. (Petaluma CA) Wilmarth Brett (Gilroy CA), Apparatus and method for cleaning containers.
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  3. Nygren Richard, Apparatus and method for cleaning sprayers.
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  4. Shambaugh Charles R. (Coral Gables FL), Apparatus for cleaning a fluid sample probe.
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  5. Jackson John M. (Potters Bar GB2), Apparatus for cleaning inside and outside surfaces of containers.
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  6. Stroh Ruediger Joachim,DEX ; Schweinoch Bozenka,DEX ; Trefzer Martin,DEX ; Thomas Uwe,DEX ; Allmann Erich,DEX ; Coad Craig, Apparatus for dry-cleaning dust-contaminated auxiliary objects for handling and storing semiconductor wafers.
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  7. Breunsbach Rex (Clackamas OR) Austen Paul M. (Milwaukie OR), Apparatus to clean printed circuit boards.
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  8. Kawano Hitoshi (Ise JPX) Okuno Atsushi (Ise JPX) Tsuda Masanori (Ise JPX) Hayashi Mitsuhiro (Ise JPX) Yamashita Teppei (Ise JPX) Murata Masanao (Ise JPX) Tanaka Tsuyoshi (Ise JPX) Morita Teruya (Ise , Article storage house in a clean room.
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  9. Kamimura Yasuo (Hachioji JPX) Ohmori Toshiaki (Itami JPX) Yanagi Motonori (Itami JPX) Fukumoto Takaaki (Itami JPX) Hama Masaharu (Itami JPX), Carrier cleaning and drying apparatus.
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  10. Thompson Raymon F. (Lakeside MT) Owczarz Aleksander (Kalispell MT), Centrifugal wafer carrier cleaning apparatus.
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  11. Thompson Raymon F. (Lakeside MT) Owczarz Aleksander (Kalispell MT), Centrifugal wafer carrier cleaning apparatus.
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  12. Thompson Raymon F. ; Owczarz Aleksander, Centrifugal wafer carrier cleaning apparatus.
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  13. Douglas, Robin S.; Sweeney, John M., Cleaning fluid distribution head.
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  14. Ballard Thomas B. (25550 Mulberry Dr. Southfield MI 48075), Cleaning machine for simultaneously cleaning the interior and exterior of hollow articles.
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  15. Palen Edward J. (Los Angeles CA), Continuous operation supercritical fluid treatment process and system.
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  16. Bardina Juan (Menlo Park CA) Gonzalez Mikel (San Jose CA), Decontamination apparatus for semiconductor wafer handling equipment.
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  17. Phenix Robert B. (Milton VT) Tandy Winfield T. (Essex Junction VT), Device for decontaminating a semiconductor wafer container.
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  18. Weber Jorn-Olaf Christian (Wappingers Falls NY) Yakubowski Carl (Hyde Park NY), Fluid application system.
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  19. Kraft Kenneth N. (Evansville IN) Allen R. Craig (Evansville IN) Schenk Larry J. (Mount Vernon IN), Fluid removing apparatus.
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  20. Gotfried Bradley L., Glass washer and chiller.
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  21. White Scott E. ; Winkler Harold E., Method and apparatus for removing quench oil from a permeable metal part.
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  22. Wickham ; III Ward E. (6380 Edison Cumming GA 30130), Method for cleaning intermediate bulk containers on a mobile vehicle.
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  23. Uno Masaaki (Kawasaki JPX) Kobayashi Masanori (Tokyo JPX) Nakashima Kazushi (Kawasaki JPX), Method of fabricating a semiconductor device including removal of electric charges.
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  24. Thompson Raymon F. ; Owczarz Aleksander, Methods for centrifugally cleaning wafer carriers.
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  25. Robb Richard A. (West Bloomfield MI) Grubb Michael J. (London CAX), Paint cleaning apparatus.
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  26. Yoshikawa Noriaki,JPX ; Yotsumoto Tadashi,JPX ; Muguruma Terumi,JPX ; Hasegawa Yoshitaka,JPX ; Kuroda Yuichi,JPX, Pod and method of cleaning it.
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  27. Meilleur Michel (7389 rue Saint-Denis Montral ; Qc CAX H2R 2E5), Portable single-cup washer.
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  28. Ohmi Tadahiro (1-17-301 ; Komegabukuro 2-chome Aoba-ku ; Sendai-shi ; Miyaga-ken 980 JPX) Yonekawa Naomichi (Sendai JPX) Horiki Hiroyuki (Tokyo JPX) Kaji Toshimitsu (Tokyo JPX) Kunimoto Fumitomo (Sen, Rotary cleaning method with chemical solutions and rotary cleaning apparatus with chemical solutions.
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  29. Thompson Raymon F. (Kalispell MT) Owczarz Aleksander (Kalispell MT), Semiconductor processor with extendible receiver for handling multiple discrete wafers without wafer carriers.
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  30. Robb Richard A. (West Bloomfield MI) Grubb Michael J. (London CAX) Grubb John J. (Calgary CAX) Asanger James T. (Carstairs CAX), Spray gun and associate parts washer and recycler.
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  31. Yamamoto Soichiro (100 Ferrier Street Markham ; Ontario CAX L3R 2Z5), Spray washer.
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  32. Lee Hideki (Nirasaki JPX), Vacuum processing apparatus, vacuum processing method, and method for cleaning the vacuum processing apparatus.
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  33. Jung Jae-hyung,KRX ; Yun Young-hwan,KRX ; Chang Ho-seung,KRX, Wafer cassette and cleaning system adopting the same.
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  34. Bexten Daniel P. ; Norby Jerry R., Wafer container cleaning system.
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  35. Kamikawa Yuuji (Uto JPX) Kuroda Kouki (Kurume JPX) Honda Yoshiyuki (Kumamoto JPX) Mukai Eiichi (Kurume JPX) Nishi Mitsuo (Kurume JPX), Washing system.
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이 특허를 인용한 특허 (3) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Schneller, Chris; Roberts, Scott; Whitaker, Kathryn; Ferguson, Kevin; Islas, Stephen; Moore, Joe; Puissant, Jim, Fixture drying apparatus and method.
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  2. Larkin, Kevin B., Modular multipurpose patient connect hub.
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  3. Robertson, Walter James; Campbell, Melanie Sue; Oster, Jr., John Ritnell; Szul, Jr., Joseph S.; Foukes, Richard J., Pressure canisters for automated delivery of coating compositions.
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