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Apparatus and process for sensing target gas species in semiconductor processing systems 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01N-019/10
  • G01N-019/00
출원번호 US-0758825 (2004-01-16)
발명자 / 주소
  • Chen,Philip S. H.
  • Chen,Ing Shin
  • Dimeo, Jr.,Frank
  • Neuner,Jeffrey W.
  • Welch,James
  • Roeder,Jeffrey F.
출원인 / 주소
  • Advanced Technology Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Intellectual Property/Technology Law
인용정보 피인용 횟수 : 7  인용 특허 : 36

초록

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대표청구항

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이 특허에 인용된 특허 (36)

  1. Cavicchi Richard (Washington Grove MD) Semancik Stephen (Mt. Airy MD) Suehle John S. (Westminster MD) Gaitan Michael (Gaithersburg MD), Application of microsubstrates for materials processing.
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  2. Luc Penelope J. (Bookham GB2), Conductive connections.
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  3. Uekita Masakazu (Hyogo JPX) Awaji Hiroshi (Hyogo JPX), Electric-electronic device including polyimide thin film.
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  4. Murakami Yuetsu,JPX ; Masumoto Katashi,JPX ; Nakamura Naoji,JPX, Electrical resistant alloy having a high temperature coefficient of resistance.
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  5. Gumbrecht Walter,DEX ; Montag Bernhard,DEX ; Kress Reinhard,DEX, Electrochemical sensor.
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  6. Ragsdale Daniel J. (Quakertown PA) Smudde ; Jr. George H. (Macungie PA) Zatko David A. (Lansdale PA), Enhanced sensitivity for oxygen and other interactive gases in sample gases using gas chromatography.
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  7. Donald J. Bray ; Chandra Venkatraman ; Craig A. Outten ; Christopher Halter ; Arvind Goel, Fluorine-doped diamond-like coatings.
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  8. Weckstrom, Kurt; Hietala, Mika, Gas analyzer using thermal detectors.
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  9. Kawai Toshikazu (Tsurugashima JPX) Yoshimura Takaaki (Ube JPX) Watanabe Mineo (Kawagoe JPX) Kamakura Manami (Miyoshi JPX), Gas chromatographic analysis of fluoromethyl-1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl ether.
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  10. Gumbrecht Walter (Herzogenaurach DEX) Schelter Wolfgang (Uttenreuth DEX) Lang Siegrun (Erlangen DEX), Gas sensor.
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  11. Lee Tony C. (Syracuse NY) Schmitkons Thomas A. (Baldwinsville NY), Gas sensor.
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  12. Ralf Moos DE; Thomas Birkhofer DE; Aleksandar Knezevic DE; Ralf Mueller DE; Carsten Plog DE, Gas sensor.
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  13. Wezurek Horst,DEX ; Bahs Hans-Jurgen,DEX, Gas sensor with flashback barrier.
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  14. Stokes Edward Brittain ; Gui John Yupeng, Gas sensor with protective gate, method of forming the sensor, and method of sensing.
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  15. Sugaya, Satoshi; Yamada, Tetsuo; Ishida, Noboru, Humidity sensor.
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  16. Dean, Frank William Houlton; Ling, Alan Edward, Hydrogen collection and detection.
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  17. Hoagland, William, Hydrogen gas indicator system.
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  18. John Carl Christenson ; Steven Edward Staller ; John Emmett Freeman ; Troy Allan Chase ; Robert Lawrence Healton ; David Boyd Rich, MEMS sensor structure and microfabrication process therefor.
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  19. Noguchi Yasuo (Yokohama JPX) Idemoto Morito (Tokyo JPX) Matsunaga Fumiaki (Yokohama JPX), Measuring instrument for concentration of gas.
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  20. Huang, Jim-Jey; Hu, Tain-Chen; Chuang, Jui-Ping, Method and apparatus for determining end-point in a chamber cleaning process.
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  21. Mansure Arthur J. ; Spates James J. ; Martin Stephen J., Method of and apparatus for determining deposition-point temperature.
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  22. Hausner, Christopher Karl; Golec, Daniel Peter; Bruce, Stephen Frederick, Method of probabilistically modeling variables.
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  23. Nader Najafi ; Sonbol Massoud-Ansari ; Srinivas Tadigadapa ; Yafan Zhang, Methods for prevention, reduction, and elimination of outgassing and trapped gases in micromachined devices.
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  24. Gaitan Michael (Gaithersburg MD) Suehle John S. (Westminister MD) Semancik Stephen (Mt. Airy MD) Cavicchi Richard E. (Washington Grove MD), Micro-hotplate devices and methods for their fabrication.
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  25. DiMeo ; Jr. Frank ; Bhandari Gautam, Micro-machined thin film hydrogen gas sensor, and method of making and using the same.
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  26. DiMeo, Jr., Frank; Baum, Thomas H., Micro-machined thin film sensor arrays for the detection of H2 containing gases, and method of making and using the same.
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  27. Eastman, Jeffrey A.; Thompson, Loren J., Nanocrystalline films for gas-reactive applications.
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  28. O'Connor, James M.; Loughran, Thomas C., Permeable protective coating for a single-chip hydrogen sensor.
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  29. Baraket Mourad,CHX ; Feltre Mauro,CHX ; Forster Martin,CHX ; Lenggenhager Rene,CHX ; Portmann Andreas,CHX ; Tenchio Georges,CHX, Photo-acoustic gas sensor.
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  30. May Iain,GBX ; Tom Glenn M., Piezoelectric gas sensing device for detection of a gas species a gaseous environment.
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  31. Miller Cynthia A. ; Tom Glenn M., Piezoelectric sensor for hydride gases, and fluid monitoring apparatus comprising same.
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  32. Suzuki Akira (Nara JPX) Furukawa Katsuki (Sakai JPX) Hatano Akitsugu (Tenri JPX) Uemoto Atsuko (Nara JPX), Schottky barrier gate type field effect transistor.
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  33. Debe Mark K. (St. Paul MN), Sensors based on nanostructured composite films.
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  34. Laush Curtis T., Solid state fluorine sensor system and method.
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  35. Adler-Golden Steven (Newtonville MA) Bernstein Lawrence S. (Bedford MA) Bien Fritz (Concord MA), Spark spectroscopic high-pressure gas analyzer.
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  36. Bernstein Jonathan J., Tunneling sensor with linear force rebalance and method for fabricating the same.
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이 특허를 인용한 특허 (7)

  1. Dimeo, Jr., Frank; Chen, Philip S. H.; Neuner, Jeffrey W.; Welch, James; Stawasz, Michele; Baum, Thomas H.; King, Mackenzie E.; Chen, Ing-Shin; Roeder, Jeffrey F., Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems.
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  2. Dimeo, Jr.,Frank; Chen,Philip S. H.; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James; Stawacz,Michele; Baum,Thomas H.; King,Mackenzie E.; Chen,Ing Shin; Roeder,Jeffrey F., Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems.
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  3. Dimeo, Frank; Dietz, James; Olander, W. Karl; Kaim, Robert; Bishop, Steven; Neuner, Jeffrey W.; Arno, Jose; Marganski, Paul J.; Sweeney, Joseph D.; Eldridge, David; Yedave, Sharad; Byl, Oleg; Stauf, Gregory T., Cleaning of semiconductor processing systems.
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  4. Dass, Ronald I.; Novak, James, Etch resistant gas sensor.
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  5. Chen, Ing-Shin; Neuner, Jeffrey W.; Kramer, Richard, Feedback control system and method for maintaining constant resistance operation of electrically heated elements.
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  6. Sweeney, Joseph D.; Yedave, Sharad N.; Byl, Oleg; Kaim, Robert; Eldridge, David; Feng, Lin; Bishop, Steven E.; Olander, W. Karl; Tang, Ying, Ion source cleaning in semiconductor processing systems.
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  7. DiMeo, Jr., Frank; Dietz, James; Olander, W. Karl; Kaim, Robert; Bishop, Steven E.; Neuner, Jeffrey W.; Arno, Jose I., Methods for cleaning ion implanter components.
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