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Method of making carbon nanotube patterned film or carbon nanotube composite using carbon nanotubes surface-modified with polymerizable moieties 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03C-005/00
출원번호 US-0786592 (2004-02-26)
우선권정보 KR-10-2003-0011898(2003-02-26)
발명자 / 주소
  • Park,Jong Jin
  • Shin,Jung Han
  • Lee,Sang Yoon
출원인 / 주소
  • Samsung Electronics Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Buchanan Ingersoll & Rooney PC
인용정보 피인용 횟수 : 11  인용 특허 : 4

초록

초록이 없습니다.

대표청구항

대표청구항이 없습니다.

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Wheland, Robert Clayton; French, Roger Harquail; Schadt, III, Frank Leonard; Zumsteg, Jr., Frederick C., Copolymers for photoresists and processes therefor.
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  2. Itatani, Hiroshi; Matsumoto, Shunichi; Itatani, Tarou; Sakamoto, Tsunenori; Gorwadkar, Sucheta; Komuro, Masanori, Method for forming polyimide pattern using photosensitive polyimide and composition for use therein.
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  3. Oelbrandt Leo,BEX ; Leenders Luc,BEX ; De Meutter Stefaan,BEX ; Vanmaele Luc,BEX, Method for making positive working printing plates from a lithographic base comprising a flexible support having a hardened hydrophilic substrate.
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  4. Ushirogouchi Toru (Yokohama JPX) Shida Naomi (Kawasaki JPX) Naito Takuya (Tokyo JPX) Asakawa Koji (Kawasaki JPX) Hongu Akinori (Tokyo JPX) Nakase Makoto (Tokyo JPX) Niki Hirokazu (Yokohama JPX), Photosensitive composition.
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이 특허를 인용한 특허 (11)

  1. Simard, Benoit; Guan, Jingwen; Dénommée, Stephane, Block functionalization methods.
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  2. Carreno, Alfredo, Food jar.
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  3. Park, Jong Jin; Shin, Jung Han; Lee, Sang Yoon, Method of making carbon nanotube patterned film or carbon nanotube composite using carbon nanotubes surface-modified with polymerizable moieties.
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  4. Kang, Jin Ho; Bryant, Robert G.; Park, Cheol; Sauti, Godfrey; Gibbons, Luke; Lowther, Sharon; Thibeault, Sheila A.; Fay, Catharine C., Multi-functional BN—BN composite.
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  5. Park, Jong Jin; Shin, Jung Han; Lee, Sang Yoon, Negative pattern of carbon nanotubes and carbon nanotube composite comprising surface-modified carbon nanotubes.
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  6. Wang, Chien-Wei; Chang, Ching-Yu; Gau, Tsai-Sheng; Lin, Burn Jeng, Patterning process and chemical amplified photoresist with a photodegradable base.
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  7. Wang, Chien-Wei; Chang, Ching-Yu; Gau, Tsai-Sheng; Lin, Burn Jeng, Patterning process and photoresist with a photodegradable base.
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  8. Wang, Chien-Wei; Chang, Ching-Yu; Lin, Burn Jeng, Photoresist and patterning process.
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  9. Wang, Chien-Wei; Chang, Ching-Yu, Photoresist stripping technique.
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  10. Wang, Chien-Wei; Chang, Ching-Yu, Photoresist stripping technique.
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  11. Schierholz, Kai; Lucas, Patrice; Boutevin, Bernard; Ganachaud, François, Polymer carbon nanotube composites.
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