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System and method for selectively increasing surface temperature of an object 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/26
  • H01L-021/02
출원번호 US-0931592 (2004-08-31)
발명자 / 주소
  • Powell,Don Carl
출원인 / 주소
  • Micron Technology, Inc.
대리인 / 주소
    Schwegman, Lundberg, Woessner & Kluth, P.A.
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 21

초록

초록이 없습니다.

대표청구항

대표청구항이 없습니다.

이 특허에 인용된 특허 (21)

  1. Roche Gregory A. (4287 Drybed Ct. Santa Clara CA 95054), Apparatus and method for laser-induced chemical vapor deposition.
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  2. Yamane Kimitaka (Tokorozawa Tokyo JA) Ueno Zene (Tokorozawa Tokyo JA) Morita Akira (Tokorozawa Tokyo JA) Nagaoka Tadahiko (Tokorozawa Akishima JA) Iwaki Shigeo (Akishima JA), Burning rate control in hydrogen fuel combustor.
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  3. Stevens E. Henry (Colorado Springs CO), Capacitors and interconnect lines for use with integrated circuits.
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  4. Grant Robert W. (Excelsior MN) Novak Richard E. (Plymouth MN), Cluster tool dry cleaning system.
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  5. Thakur Randhir P. S. (Boise ID), Control and 3-dimensional simulation model of temperature variations in a rapid thermal processing machine.
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  6. Thakur Randhir P. S. (Boise ID), Control and 3-dimensional simulation model of temperature variations in a rapid thermal processing machine.
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  7. Ferguson Lucian G. ; Fraas Lewis M., Energy-band-matched infrared emitter for use with low bandgap thermophotovoltaic cells.
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  8. Fayfield Robert T. ; Schwab Brent, Equipment for UV wafer heating and photochemistry.
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  9. Welt Glenn (1117 Perimeter Cir. W. ; Suite N122 Atlanta GA 30346), Full body tanning apparatus.
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  10. Fukuda Hisashi (Tokyo JPX), Method and device for cleaning substrates.
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  11. Thakur Randhir P. S. (Boise ID) Gonzalez Fernando (Boise ID), Method for optimizing thermal budgets in fabricating semiconductors.
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  12. Thakur Randir P. S. (Boise ID) Gonzalez Fernando (Boise ID), Method for optimizing thermal budgets in fabricating semiconductors.
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  13. Itoh Hiromi (Hyogo JPX) Iwasaki Masanobu (Hyogo JPX) Tokui Akira (Hyogo JPX) Tsukamoto Katsuhiro (Hyogo JPX), Method for pretreating semiconductor substrate by photochemically removing native oxide.
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  14. Thakur Randhir P. S. (Boise ID) Sandhu Gurtej S. (Boise ID) Martin Annette L. (Boise ID), Method for repeatable temperature measurement using surface reflectivity.
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  15. Horioka Keiji (Kawasaki JPX) Okano Haruo (Tokyo JPX) Sekine Makoto (Yokohama JPX), Method of selectively forming an insulation layer.
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  16. Stephenson Michael J. ; Haas Paul A. ; Everitt David A., Multicomponent fluid feed apparatus with preheater and mixer for a high temperature chemical reactor.
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  17. Elliott David J. ; Hollman Richard F., Photoreactive surface cleaning.
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  18. Kimura Masatoshi,JPX ; Higashitani Keiichi,JPX ; Ohno Takio,JPX, Semiconductor device and method of fabricating the same.
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  19. Imai Shinichi (Osaka JPX) Terai Yuka (Osaka JPX) Fukumoto Masanori (Osaka JPX) Yano Kousaku (Osaka JPX) Umimoto Hiroyuki (Osaka JPX) Odanaka Shinji (Osaka JPX) Mizuno Yasuo (Osaka JPX), Semiconductor device and process.
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  20. Ono, Yoshiharu; Hattori, Sachiko; Odamura, Yuko, Semiconductor manufacturing apparatus, method for cleaning the semiconductor manufacturing apparatus, and light source unit.
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  21. Khan Ashraf R. ; Ramanathan Sasangan ; Foggiato Giovanni Antonio, Surface modification of semiconductors using electromagnetic radiation.
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이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Cittadini Bellini, Serafino; Bregonzio, Valerio, Method and apparatus for heating heat-shrinkable pipe sleeves.
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