[특허]High pressure processing method

High pressure processing method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B08B-003/02
출원번호	US-0249444 (2005-10-14)
등록번호	US-7252719 (2007-08-07)
우선권정보	JP-2001-128276(2001-04-25); JP-2001-133003(2001-04-27)
발명자 / 주소	Sakashita,Yoshihiko Watanabe,Katsumi Oshiba,Hisanori Sarumaru,Shogo Muraoka,Yusuke Saito,Kimitsugu Mizobata,Ikuo Kitakado,Ryuji
출원인 / 주소	Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.
대리인 / 주소	Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
인용정보	피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 20

초록 ▼

A high-pressure processing apparatus includes a processing vessel including a processing chamber formed therein to perform a certain process onto an object in the processing chamber; fluid feeding means which feeds a high-pressure fluid into the processing chamber; fluid discharging means which discharges the high-pressure fluid from the processing chamber; an agitating unit which is arranged in the processing chamber and is operative to flow the high-pressure fluid over the object by relative rotation to the processing vessel; a communicating channel which is formed in the processing vessel to communicate inside and outside of the processing chamber; a rotary driving member which is coupled to the agitating unit via a shaft portion provided in the communicating channel; and a sealing portion which is provided between the shaft portion and the processing vessel to disconnect the processing chamber from the rotary driving member. The fluid discharging means includes a fluid discharging port formed in a certain position of the communicating channel closer to the processing chamber than the sealing portion to discharge the high-pressure fluid.

대표청구항 ▼

What is claimed is: 1. A high-pressure processing method comprising the steps of: feeding a corrosive fluid into a processing chamber of a pressure vessel through a first feeding communication channel; washing an object supportively loaded in the processing chamber with the corrosive fluid under an atmospheric pressure; discharging the corrosive fluid out of the processing chamber through a first discharging communication channel; feeding a high-pressure fluid into the processing chamber through a second feeding communication channel to dry the object while keeping the first feeding communication channel and the first discharging communication channel closed; and discharging the high pressure fluid out of the processing chamber through a second discharging communication channel while keeping the first feeding communication channel and the first discharging communication channel closed. 2. A high-pressure processing method comprising the steps of: feeding a corrosive fluid into a processing chamber of a pressure vessel through a first feeding communication channel; applying a developer onto an object supportively loaded in the processing chamber under an atmospheric pressure for development; discharging the corrosive fluid out of the processing chamber through a first discharging communication channel; feeding a high-pressure fluid into the processing chamber through a second feeding communication channel to wash and dry the object while keeping the first feeding communication channel and the first discharging communication channel closed; and discharging the high pressure fluid out of the processing chamber through a second discharging communication channel while keeping the first feeding communication channel and the first discharging communication channel closed.

이 특허에 인용된 특허 (20)

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