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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0871897 (2004-06-17) |
등록번호 | US-7253107 (2007-08-07) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 11 |
A pressure control system allows gas to be evacuated out of a semiconductor process chamber at a substantially constant rate of mass flow. A gas line connects the process chamber to a vacuum pump. A controllable valve having a variable sized opening is positioned between the process chamber and the
I claim: 1. A method for fabricating an integrated circuit, comprising: providing a semiconductor process chamber having a gas outlet; providing a pump having a gas inlet; providing a gas line connecting the gas outlet to the gas inlet, wherein a variable size opening is located within the gas line
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