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[미국특허] Cooling apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F28B-009/00
출원번호 US-0195500 (2005-08-01)
등록번호 US-7257956 (2007-08-21)
우선권정보 JP-2004-224857(2004-07-30)
발명자 / 주소
  • Shimada,Tetsuya
  • Watabe,Katsuhiko
출원인 / 주소
  • ESPEC Corp.
대리인 / 주소
    Jordan and Hamburg LLP
인용정보 피인용 횟수 : 11  인용 특허 : 10

초록

A cooling apparatus configured such that a cooling body provided with heat-dissipating plates is pressed against a device to which a socket of a burn-in board is attached, and air is provided by a blower such that the air passes between the heat-dissipating plates, and compressed air provided from a

대표청구항

We claim: 1. A cooling apparatus for cooling a semiconductor device to a target temperature; said semiconductor device including a first surface, said first surface being planar, said semiconductor device passing electric current therethrough and generating heat so that a temperature thereof rises

이 특허에 인용된 특허 (10) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Spinazzola, R. Stephen; Peltz, Dennis L., Computer rack heat extraction device.
  2. Spinazzola, R. Stephen; Peltz, Dennis L., Computer room air flow method and apparatus.
  3. Sharp,Anthony C.; Hudz,Andrew; Jeffery,Peter, Cooling airflow distribution device.
  4. Suzuki Masahiro (Kawasaki JPX) Fujisaki Akihiko (Kawasaki JPX) Ishimine Junichi (Kawasaki JPX), Cooling structure for integrated circuit element modules, electronic device and heat sink block.
  5. Fink, James, Data center cooling system.
  6. Gabuzda Paul G. (Laguna Beach CA) Terrell Sanford V. (Laguna Hills CA), Directed air management system for cooling multiple heat sinks.
  7. Song, Tae-Ho; Kim, Sung-Jin, Heat sink.
  8. Tsuchiya Toshihiro,JPX ; Tanaka Kouichi,JPX ; Hashimoto Kiromasa,JPX ; Morita Kouji,JPX ; Takaku Tsutomu,JPX, Process of polishing wafers.
  9. Sung Myeon-Chang,KRX, Temperature-Humidity controller for semiconductor equipment and controlling method thereof.
  10. Hisashi Masumura JP; Kouichi Tanaka JP; Fumio Suzuki JP; Kouzi Morita JP; Kouichi Okamura JP; Naotaka Toyama JP, Workpiece holder for polishing, method for producing the same, method for polishing workpiece, and polishing apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (11) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Czamara, Michael P.; Morales, Osvaldo P.; Nalley, Thomas M., Air directing device for rack system.
  2. Czamara, Michael P.; Morales, Osvaldo P., Compressed air cooling system for data center.
  3. Morales, Osvaldo P., Cooling air stack for computer equipment.
  4. Morales, Osvaldo P., Cooling air stack for computer equipment.
  5. Czamara, Michael P.; Eichelberg, John W., Cooling electrical systems based on power measurements.
  6. Gardner, Brock Robert, Managing airflow supplied through soft ducts.
  7. Czamara, Michael P.; Morales, Osvaldo P.; Ross, Pete G., Rack system cooling with inclined computing devices.
  8. Czamara, Michael Phillip; Morales, Osvaldo P.; Ross, Peter George, Rack system cooling with inclined computing devices.
  9. Czamara, Michael P., Rack-mounted air directing device with scoop.
  10. Schrempp, Michael W.; Corddry, Matthew T.; Frink, Darin Lee; Ross, Peter G.; Morales, Osvaldo P., Rack-mounted computer system with shock-absorbing chassis.
  11. Springs, Charles Nakia; Lindsay, Joseph James; Gregory, Shelton George, System for supplying cooling air from sub-floor space.

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