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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0648317 (2003-08-27) |
등록번호 | US-7262828 (2007-08-28) |
우선권정보 | JP-2002-261502(2002-09-06) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 3 |
A near-field photomask includes a light shield film having openings to constitute a light shield portion. The photomask can be used to expose an exposure target with near-field light generated through the openings. The openings formed in the light shield film include two or more parallel rows of fi
What is claimed is: 1. A near-field photomask comprising: a light shield film and openings formed in said light shield film, wherein the openings generate near-field light in response to receiving light incident thereon, wherein the generated near-field light is usable to expose an exposure target
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