최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0666198 (2003-09-17) |
등록번호 | US-7303853 (2007-12-04) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 10 |
3-D structures which are fabricated by gray-tone exposure of a class of thick negative photo-sensitized epoxy resists from the substrate side of a transparent substrate, using development methods that rely upon a physical distinction between polymerized (solid) and unpolymerized (liquid) photoresist
The invention claimed is: 1. A product produced by the process comprising the steps of: applying a layer of photo-sensitized epoxy to the first side of a substrate having a first and second side, wherein the layer of epoxy has a thickness of at least 100 micrometers and the substrate is at least pa
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.