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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0278318 (2006-03-31) |
등록번호 | US-7316966 (2008-01-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 145 |
Provided herein is a substrate processing system, which comprises a cassette load station; a load lock chamber; a centrally located transfer chamber; and one or more process chambers located about the periphery of the transfer chamber. The load lock chamber comprises double dual slot load locks cons
What is claimed is: 1. A method of processing substrates in a process system to improve throughput thereof, comprising: moving a first substrate from an atmospheric cassette load station through a stationary load lock chamber to a transfer chamber, said stationary load lock chamber comprising: two
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