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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0683606 (2003-10-09) |
등록번호 | US-7323231 (2008-01-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 262 |
One aspect of the invention is directed toward a method of forming a conductive layer on a microfeature workpiece. In one embodiment, the method comprises placing a microfeature workpiece in a vapor reaction chamber, depositing an electrically conductive material onto the microfeature workpiece in a
I claim: 1. A method of depositing a layer onto a microfeature workpiece, comprising: (a) placing a microfeature workpiece in a vapor reaction chamber; (b) injecting a gas into a plasma zone in the vapor reaction chamber; (c) generating a plasma from the gas in the plasma zone that causes an electr
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