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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0888573 (2004-07-09) |
등록번호 | US-7329308 (2008-02-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 46 |
The present invention relates to systems and methods for controlling humidity and temperature in gases or air streams used in semiconductor processing systems. These systems and methods can be used in combination with systems and methods for contaminant detection and removal.
What is claimed is: 1. A method for filtering a gas stream for a semiconductor processing tool, comprising the steps of: providing an output gas stream from a semiconductor tool, the output gas stream having contaminants; providing a flow of a scrubbing liquid onto an absorption structure through a
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