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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0325825 (2006-01-05) |
등록번호 | US-7354879 (2008-04-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 7 |
A chemical processing apparatus that utilizes a ceramic media sintered at a lower temperature than the apparatus' maximum exposure temperature is described. The media's physical and chemical properties may contribute to its thermal stability when exposed to temperatures that exceed the media's sinte
I claim: 1. Ceramic media, comprising: (a) MgO, wherein said MgO is between 48 and 78 percent by weight of said media; (b) SiO2, wherein said SiO2 is between 5 and 30 percent by weight of said media; (c) Al2O3, wherein said Al2O3 is between 5 and 30 percent by weight of said media; and (d) wherein
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