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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0368976 (2003-02-18) |
등록번호 | US-7361313 (2008-04-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 26 인용 특허 : 49 |
The methods, systems 400 and apparatus disclosed herein concern metal 150 impregnated porous substrates 110, 210. Certain embodiments of the invention concern methods for producing metal-coated porous silicon substrates 110, 210 that exhibit greatly improved uniformity and depth of penetration of me
What is claimed is: 1. A method comprising: a) obtaining a porous silicon substrate and inserting the porous silicon substrate in a microfluidic channel; b) oxidizing the surface-of the substrate to form silicon dioxide; c) wetting the substrate with a metal salt solution; and d) thermally decompos
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