최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0032793 (2005-01-10) |
등록번호 | US-7387855 (2008-06-17) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 5 |
An anti-electrostatic discharge photomask blank for fabrication of an anti-electrostatic discharge photomask is disclosed. The anti-electrostatic discharge photomask blank includes a mask substrate, a conductive layer provided on the mask substrate and an opaque patterning layer provided on the cond
What is claimed is: 1. An anti-electrostatic discharge photomask blank comprising: a mask substrate; a conductive layer provided on said mask substrate; an anti-reflective coating layer provided on said conductive layer; and an opaque patterning layer provided on said anti-reflective coating layer.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.