최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0967277 (2004-10-19) |
등록번호 | US-7387867 (2008-06-17) |
우선권정보 | JP-2003-363005(2003-10-23) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 0 |
In a massed region of each of a plurality of transfer areas of a mask a plurality of light transmission patterns are formed by opening a half-tone film. A phase shifter is disposed in each of the light transmission patterns so that a 180�� phase inversion occurs between the lights that transmit thro
What is claimed is: 1. A method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device, comprising the steps of: (a) depositing a photo-resist film on a main surface of a wafer; and (b) transferring a desired pattern onto said photo-resist film by subjecting said wafer to a reduced projection
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.