검색연산자 | 기능 | 검색시 예 |
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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) | G01N-001/22 |
미국특허분류(USC) | 073/023.2; 073/028.01; 073/028.04; 073/031.02; 073/031.03; 073/031.05 |
출원번호 | US-0001669 (2004-12-01) |
등록번호 | US-7430893 (2008-10-07) |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 | |
대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 9 |
The present invention relates to a system and method for sampling a gas flow to measure one or more contaminants within a semiconductor processing tool. The system includes a portable unit containing one or more dry traps, Tenax traps and, if desired, wet impingers. The unit is coupled to a gas flow in a clean room and the dry traps. Tenax traps and wet impingers measure contaminants contained in the gas supply for a determined sampling interval. When the sampling interval is done, the unit is sent to an analysis facility for processing.
What is claimed: 1. A method for detecting contaminants in a gas flow in a semiconductor processing facility, using a gas sampling unit, said method comprising the steps of: providing a gas sampling unit comprising an entry manifold for dividing said gas flow into at least a first sample flow and a second sample flow; an exit manifold having an input end for receiving said at least the first sample flow and the second sample flow after passing through a plurality of sampling devices, and an output end, wherein the plurality of sampling devices comprises...