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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0032103 (2005-01-11) |
등록번호 | US-7455076 (2008-11-25) |
우선권정보 | KR-10-2004-0001927(2004-01-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 13 |
An apparatus and method for controlling exhaust produced by a reactive chamber is provided. The apparatus for controlling exhaust may include, for example, a valve body having an exhaust hole for the exhaust to pass through, and may include a first and second valve which regulate the opening and/or
What is claimed is: 1. An apparatus for controlling pressure in a semiconductor manufacturing system, provided in an exhaust line between a reactive chamber and a vacuum pump, comprising: a valve body having at least one exhaust hole in the exhaust line; a first valve slidably movable inside the ex
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