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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) | G02B-017/00 |
미국특허분류(USC) | 359/642; 359/727; 359/726; 359/732 |
출원번호 | US-0657925 (2007-01-25) |
등록번호 | US-7463422 (2008-12-09) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 16 인용 특허 : 104 |
A method of determining materials of lenses contained in an optical system of a projection exposure apparatus is described. First, for each lens of a plurality of the lenses, a susceptibility factor KLT/LH is determined. This factor is a measure of the susceptibility of the respective lens to deteriorations caused by at least one of lifetime effects and lens heating effects. Then a birefringent fluoride crystal is selected as a material for each lens for which the susceptibility factor KLT/LH is above a predetermined threshold. Theses lenses are assigned...
The invention claimed is: 1. An optical system of a projection exposure apparatus, comprising at least one lens that is made of a non-crystalline material and at least one lens that is made of a birefringent crystal, wherein all lenses made of a birefringent crystal have a higher susceptibility factor KLT/LH than the lenses made of a non-crystalline material, wherein KLT/LH is given by description="In-line Formulae" end="lead"KLT/LH =D/* (CA>/CA)2 ,description="In-line Formulae" end="tail" with being the mean value of the thickness D of the pluralit...