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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0805344 (2004-03-22) |
등록번호 | US-7493765 (2009-02-24) |
우선권정보 | JP-2003-083518(2003-03-25); JP-2004-78402(2004-03-18) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 4 |
There is provided a hydrogen production apparatus having a simple structure for efficiently producing hydrogen. The hydrogen production apparatus 10 comprises a reactor 12 for reacting silicon (which may be waste silicon) and an aqueous basic hydroxide solution, a hydrogen absorbing alloy 20 for sto
What is claimed is: 1. A hydrogen production apparatus comprising: reacting means for reacting silicon and an aqueous basic hydroxide solution to produce hydrogen such that hydrogen produced by said reaction is obtained in a high pressure state exceeding 0.2 MPa at 25�� C.; hydrogen storing means f
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