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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0790403 (2004-03-01) |
등록번호 | US-7501303 (2009-03-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 25 |
A silicon wafer having a distributed Bragg reflector buried within it. The buried reflector provides a high efficiency, readily and accurately manufactured reflector with a body of silicon. A photodetector using the buried layer to form a resonant cavity enhancement of the silicon's basic quantum ef
The invention claimed is: 1. A method for fabricating a silicon photodetector assembly adapted for at least one frequency of light comprising the steps of: providing a first body of silicon having a layer of silicon dioxide on a surface thereof; providing a second body of silicon; implanting hydrog
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