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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | UP-0331875 (2006-01-12) |
등록번호 | US-7517417 (2009-07-01) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 62 |
A method for producing a tantalum PVD component includes a minimum of three stages, each of which include a deformation step followed by a high-temperature anneal. The deformation occurs in air and at a component temperature less than or equal to 750° F. in at least one of the minimum of three stage
I claim: 1. A method for producing a tantalum PVD component comprising a minimum of three stages, each of which include a deformation step followed by an inert atmosphere high-temperature anneal, the deformation occurring in air and at a component temperature less than or equal to 750° F. in at lea
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