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Applications of semiconductor nano-sized particles for photolithography 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03F-007/26
  • G03F-007/20
출원번호 UP-0792377 (2004-03-04)
등록번호 US-7524616 (2009-07-01)
발명자 / 주소
  • Chen, Zhiyun
  • Fleet, Erin F.
  • Cooper, Gregory
출원인 / 주소
  • Pixelligent Technologies LLC
대리인 / 주소
    Nixon & Vanderhye PC
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 10

초록

Semiconductor nano-sized particles possess unique optical properties, which make them ideal candidates for various applications in the UV photolithography. In this patent several such applications, including using semiconductor nano-sized particles or semiconductor nano-sized particle containing mat

대표청구항

The invention claimed is: 1. A method of performing immersion photolithography comprising: projecting light along an optical path to form a light pattern on a substrate comprising a wafer that is at least in part coated with a layer comprising photoresist, at least a portion of said light passing t

이 특허에 인용된 특허 (10)

  1. Sung H. Choi ; Martin S. Leung ; Gary W. Stupian ; Nathan Presser, Electron beam lithography method forming nanocrystal shadowmasks and nanometer etch masks.
  2. Sarma Kalluri R. (Mesa AZ), High mobility integrated drivers for active matrix displays.
  3. Martin Mennig DE; Peter W. Oliveira DE; Helmut Schmidt DE, Method for producing multilayered optical systems.
  4. Cooper Gregory D. ; Mohring Richard M., Methods for transferring a two-dimensional programmable exposure pattern for photolithography.
  5. Venkatesan Thirumalai N. C. (Highland Park NJ), Multimode electrically switched optical port.
  6. Berggren Magnus Rolf,SEX ; Dodabalapur Ananth ; Steigerwald Michael Louis, Optical devices comprising polymer-dispersed crystalline materials.
  7. Lee, Howard Wing Hoon; Chin, Alan Hap; Pfenninger, William Matthew, Optical devices with engineered nonlinear nanocomposite materials.
  8. Ichihara, Katsutaro; Kikitsu, Akira; Nagase, Toshihiko, Optical recording medium, optical recording and/or reproducing method, and optical recording and/or reproducing system.
  9. Hattori, Takashi; Gotoh, Yasuko; Satoh, Hidetoshi; Tanaka, Toshihiko; Shiraishi, Hiroshi, Photomask, the manufacturing method, a patterning method, and a semiconductor device manufacturing method.
  10. Weisbuch Claude (Paris FRX) Bois Philippe (Cesson FRX) Vinter Borge (Paris FRX), Quantum well optical device.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Cooper, Gregory D.; Wehrenberg, Brian L., Block co-polymer photoresist.
  2. Cooper, Gregory D.; Chen, Zhiyun; Williams, Z Serpil Gonen; Thompson, Larry F., Resists for lithography.
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